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公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。
    溅射靶材原理：以pld为例，因素主要有：靶材与基片的晶格匹配程度镀膜氛围（低压气体氛围）基片温度激光器功率脉冲频率溅射时间对于不同的溅射材料和基片，尽量参数需要实验确定，是各不相同的，镀膜设备的好坏主要在于能否准确控温，能否保证好的真空度，能否保证好的真空腔清洁度。
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     铪，金属Hf，原子序数72，原子量178.49，熔点高，锗靶，与锆共存。
是一种带光泽的银灰色的过渡金属。
有金属光泽;金属铪有两种变体:α铪为六方密堆积变体(1750℃)，其转变温度比锆高。
金属铪在高温下有同素异形变体存在。
具有塑性的金属，当有杂质存在时质变硬而脆。
空气中稳定，灼烧时仅在表面上发暗。
细丝可用火柴的火焰点燃。
性质似锆。
不和水、稀酸或强碱作用，但易溶解在*中。
在化合物中主要呈+4价。
铪合金(Ta4HfC5)是已知熔点很高的物质(约4215℃)。
金属铪有较高的中子吸收截面，锗靶批发，可用作反应堆的控制材料。
是理想的防中子辐射材料，在**事上反应堆中用作启动和关闭反应堆运转的控制棒。
铪是重要的合金元素，用于制作硬质合金刀具、高性能飞机和空间动力系统的高温合金，铪也用于真空技术中。
铪无单独矿物，只是锆生产过程中的副产品，生产锆的工艺均适用于铪。
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