溅射靶材    北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年，石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。
   由金属靶面通过反应溅射工艺形成化合物的过程中，化合物是在哪里形成的呢？由于活性反应气体粒子与靶面原子相碰撞产生化学反应生成化合物原子，通常是放热反应，陶瓷化合物靶材，反应生成热必须有传导出去的途径，否则，该化学反应无法继续进行。
在真空条件下气体之间不可能进行热传导，陶瓷化合物靶材，所以，化学反应必须在一个固体表面进行。
反应溅射生成物在靶表面、基片表面、和其他结构表面进行。
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公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。
    溅射靶材主要应用于电子及信息产业，如集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子控制器件等；亦可应用于玻璃镀膜领域；还可以应用于耐磨材料、高温耐蚀、装饰用品等行业。
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北京石久高研金属材料有限公司（shijiugaoyan168.b2b.hc360.com）为客户提供“光学镀膜材料,合金靶材,二氧化钛,高纯材料,”等业务，公司拥有“石久高纯靶材”等品牌。
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欢迎来电垂询，联系人：史永泰。
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