高纯铝靶生产厂家   北京石久高研金属材料有限公司致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。
     高纯铝靶     化学符号：Al外观：银白色原子量：26.98154蒸发温度：1220℃密度：2.7g/cm3熔点：660℃沸点：2467℃汽化温度：1082℃电阻率/μΩcm:2.66电阻温度系数/℃-1:4.20×10-3溶解于：碱类，稀*蒸发方式：钨丝或钼舟蒸发源材料（丝、片）:W坩埚:BN、TiC/C、TiB2-BN性能：铝膜从紫外区到红外区具有平坦而且很高的反射率，锗出售，铝膜对基地的附着力比较强，由于铝膜表面总是存在着一层透明的Al2O3薄膜的保护，所以铝膜的机械强度和化学稳定性都比较好。
通常真空蒸发制备的铝膜呈银灰色，但有时也呈黑色。
蒸发源为电子*，基地为氧化硅薄膜（100nm厚），蒸镀铝料的纯度为99.999%。
合金及相湿、钨多股绞合较好；加工性能好，锗批发，可加工成任意形状；应用：保护膜，反射膜，增透膜用途：超纯铝用于制造光电子存储媒体；作为集成电路的配线石久高研专注15年提供高纯靶材*、高纯靶材欢迎来电咨询~~北京石久高研金属材料有限公司   北京石久高研金属材料有限公司致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。
     目前公司主要生产销售的产品包括金属基、氧化物、氟化物及其它化合物类型的光学薄膜材料，主要应用于：溅镀膜、复合膜、彩色膜、增透膜、透紫外膜、激光装置滤光片、保护膜、透明导电膜、变色膜、优良的宽带增透膜、磁性薄膜、可见光区增透膜、红外增透膜、分光膜、多层膜、高反射膜、电阻膜、热反射膜、冷光灯、冷光碗及各种镜片镀膜，真空镀膜材料，陶瓷溅射靶材，金属溅射靶材，合金溅射靶材，高纯钛氧化物，陶瓷靶材，金属靶材，合金，高纯金属，稀贵金属，金银铂钯，铟丝，锡丝，铝丝，各种化合物靶材，IZO，AZO，ITO，IZO，氧化锌，氮化钛，二硼化锆、钛酸锶，二硼化钛，二氧化铪，氧化铝，氮化硼，氮化钛，氮化硅靶、碳化硅靶，多晶硅靶、二氧化硅靶，钛靶、镍靶、铝靶，锗，铜靶、锌靶、锡靶，锆靶、钴靶、金靶等材料。
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     企业文化标语口号     1.企业宗旨：*，信誉取胜，质量优良，服务*。
     2.经营理念；a.质量——形象的基础；科技——腾飞的关键；管理——*的主题；创新——发展的源泉。
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