溅射靶材    北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年，石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。
公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。
    背靶材料无氧铜(OFC)–目前**常使用的作背靶的材料是无氧铜，因为无氧铜具有良好的导电性和导热性，锗靶，而且比较容易机械加工。
如果保养适当，无氧铜背靶可以重复使用10次甚至更多。
    钼(Mo)–在某些使用条件比较特殊的情况下，如需要进行高温帖合的条件下，无氧化铜容易被氧化和发生翘曲，所以会使用金属钼为背靶材料或某些靶材如陶瓷甚至某些金属靶材的热膨胀系数无法与无氧铜匹配，同样也需要使用金属钼作为背靶材料。
不锈钢管(SST)–目前**常使用不锈钢管作为旋转靶材的背管，因为不锈钢管具有良好的强度和导热性而且非常经济石久高研专注15年提供高纯金属靶材 *、高纯靶材欢迎来电咨询~~~磁控溅射靶材   北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年，石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。
公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。
    磁控溅射靶材应用领域    存储用在储存技术方面，高密度、大容量硬盘的发展，需要大量的巨磁阻薄膜材料，CoF~Cu多层复合膜是如今应用广泛的巨磁阻薄膜结构。
磁光盘需要的TbFeCo合金靶材还在进一步发展，北京锗靶批发，用它制造的磁光盘具有存储容量大，寿命长，北京锗靶厂家，可反复无接触擦写的特点。
如今开发出来的磁光盘，具有TbFeCo/Ta和TbFeCo/Al的层复合膜结构，锗靶加工，TbFeCo/AI结构的Kerr旋转角达到58，而TbFeCofFa则可以接近0.8。
经过研究发现，低磁导率的靶材高交流局部放电电压l抗电强度。
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北京石久高研金属材料有限公司（shijiugaoyan168.b2b.hc360.com）实力雄厚，信誉可靠，在北京昌平区的其它等行业积累了大批忠诚的客户。
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