金属锗靶材Ge靶材 磁控溅射靶材 电子镀膜蒸发料 纯度：99.99%中文名锗水溶性不溶于水分子量 72.61原子序数 32熔  点938.25℃沸  点2830℃标签：  北京市磁控溅射 北京市磁控溅射厂家北京市北京市北京市磁控溅射厂家金属锗靶材Ge靶材磁控溅射