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高纯金属镍靶材 Ni靶材 磁控溅射靶材 电子镀膜蒸发料
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高纯金属镍靶材Ni靶材磁控溅射靶材电子镀膜蒸发料 纯度:99.99%中文名镍 原子序数28原子量58.69密度8.902克/立方厘米 熔点1453℃沸点2732℃标签:镍靶材Ni靶材 镍靶材Ni靶材 北京市高纯金属 北京市高纯金属厂家北京市北京市[镍靶材 Ni靶材] 北京市高纯金属厂家高纯金属镍靶材Ni靶材磁控溅射靶材电子镀膜蒸发料
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