NIE-3500（M）离子束清洗系统产品概述：该系统为计算机全自动实现工艺控制的紧凑型独立的立柜式离子束刻蚀系统，具有结构紧凑、功能强大、自动化程度高、模块化设计易于维护、低成本的优势。
所有核心组件均为。
NIE-3500（M）离子束清洗系统产品特点：低成本离子束：高达2KV/10mA离子电流密度100-360uA/cm2离子束直径：4",5",6"兼容反应及非反应气体(Ar,O2,CF4,Cl2)**限真空5x10-7Torr260l/s涡轮分子泵，串接500l/min干泵14"不锈钢或铝质腔体水冷旋转/倾斜样品台(NIE-3500)自动上下载片（NIE-3500）基于LabView软件的PC计算机全自动控制占地面积30"x30"产品应用：表面清洗表面处理离子铣带活性气体的离子束刻蚀光栅刻蚀SiO2，Si和金属的深槽刻蚀标签：硅片清洗...离子源清...Ion...离子束清...晶圆清洗... 硅片清洗设备离子源清洗IonBeam离子束清洗系统晶圆清洗设备晶圆清洗机 上海市离子束清洗 上海市离子束清洗厂家上海市上海市[硅片清洗设备 离子源清洗 IonBeam 离子束清洗系统 晶圆清洗设备 晶圆清洗机] 上海市离子束清洗厂家离子源清洗NIE-3500（M）离子束清洗系统那诺-马斯特