微波等离子化学气相沉积系统概述：NANO-MASTERPECVD系统能够沉积高质量的SiO2,Si3N4,或DLC薄膜，至大可达6”直径的基片上，该系统采用淋浴头电**或中空阴**射频等离子源来产生等离子，具有分形气流分布的优势，样品台可以通过RF或脉冲DC产生偏压。
并可以支持加热和循环冷却水的冷却.使用250l/sec涡轮分子泵及3.5cfm的机械泵，腔体可以达到低至10-7 torr的真空。
标准配置包含1路惰性气体、3路活性气体管路和4个MFC带有气体分布系统的平面中空阴**等离子源使得系统可以满足广大范围的要求，无论是等离子强度、均匀度，还是要分别*某些活性组份系统可以覆盖z广的可能性来获得各种沉积参数。
微波等离子化学气相沉积系统应用：等离子诱导表面改性：就是通常所说的用等离子实现表面改性(如亲水性、疏水性等)等离子清洗：去除有机污染物等离子聚合：对材料表面产生聚合反应沉积二氧化硅、氮化硅、DLC(类金刚石)，以及其它薄膜CNT(碳纳米管)和石墨烯的选择性生长：在需要的位置生长CNT或石墨烯。
微波等离子化学气相沉积系统特点：立式系统自动上下载片，带预真空锁不锈钢或铝制腔体**限真空可达10-7TorrRF淋浴头，HCD或微波等离子源高达6”(150mm)直径的样品台RF射频偏压样品台水冷样品台可加热到的800°C样品台加热的气体管路加热的液体传送单元抗腐蚀的涡轮分子泵组z大可支持到8MFC基于LabView软件的PC计算机全自动控制菜单驱动，4级密码访问保护完整的安全联锁 标签：pecv化学气相cvdcvd化等离子体 pecvd化学气相沉积系统cvdcvd化学气相沉积设备等离子体化学气相沉积系统 上海市CVD设备 上海市CVD设备厂家上海市上海市[pecvd 化学气相沉积系统 cvd cvd化学气相沉积设备 等离子体化学气相沉积系统] 上海市CVD设备厂家CVD设备微波等离子化学气相沉积系统那诺-马斯特