化学气相沉积设备CVD碳包覆设备设备名称：鸿峰牌CVD化学气相沉积炉设备用途：真空CVD化学气象沉积炉主要用于实验室新型炭材料和膜材料的化学沉积实验,属于管式高温回转炉。
该设备烧结温度可达1150℃,;可配置不同的真空系统来达到理想的真空度;同时通过三路高精度质量流量计控制不同气体体,是为石圆生长、研发的*炉,也同样透用于要求升降温速度比较快的CVD实验鸿峰化学气相沉积炉的主要特点：1.滑动式炉体结构实现快速升降温2.开启式盖设置,降低沉积温度、加快沉积速度3.日本进口温控仪表,64控温程序,分段式加热控制4.双**旋片真空原+分子原,实取对真空度的不同要求,**限真空可达10E-4pa5.加热区稳定温度可达1150℃6.工作电压:AC220v50/60Hz;功率;4KW7.炉体采用高纯石英管,高温下化学稳定性强,耐腐蚀,热膨胀系数**小售后与保修：鸿峰牌CVD化学气相沉积炉整机一年保修(相关耗材除外）；终身维护，质保期起始日为设备到达客户现场*天。
主营产品：实验室回转炉、超容碳活化炉、石墨烯还原炉、气氛回转炉以客户需求为出发点,研制的粉体干燥煅烧系列回转炉、网带炉、推板炉、管式炉、井式炉、梭式窑等广泛应用于锂离子电池材料(*铁锂、锰酸锂、钴酸锂、三元、石墨负**等)、稀土材料、活性炭、化工催化剂材料、磁性材料、粉末冶金材料等。
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