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二硅化钼靶材 MoSi2靶材 磁控溅射靶材 电子束蒸发料

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二硅化钼靶材MoSi2靶材磁控溅射靶材电子束蒸发料纯度：99.5%中文名二硅化钼熔    点2030℃密    度6.24g/cm3分子量154.13EINECS235-231-8电阻率21.5×10-6Ω·cm标签：  北京市硅化钼靶材靶材 北京市硅化钼靶材靶材厂家北京市北京市北京市硅化钼靶材靶材厂家二硅化钼靶材MoSi2靶材磁控溅射靶材电子束蒸发料
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