临沂研创新材料科技有限公司名  称：二氧化铪熔  点：2812℃符  号：HfO2         原子量：210.49密  度：9.68g/cm3纯  度：4N 产品规格状态纯度尺寸包装颗粒（黑色）4N1-3mm或压片状100g，500g，1kg颗粒（白色）4N1-3mm或压片状100g，500g，1kg粉末4N200目100g、250g、1kg靶材4NΦ50.8、Φ76.2、Φ101.6真空包装产品优点蒸发压力：在2678℃时1Pa；在2875℃时10Pa线膨胀系数：5.6×10-6/K溶解度：不溶解于水薄膜特性：透光范围～220～12000nm；折射率（250nm）～2.15 （500nm）～2蒸发条件：用电子*，氧分压～1～2×10-2Pa。
蒸发温度～2600～2800℃，基片温度～250℃，蒸发速率2nm/s应用领域:UV增透膜，干涉膜临沂研创新材料科技有限公司*单质金属靶材合金靶材陶瓷溅射靶材及熔炼添加镀膜材料如下合金靶材：钛铝Ti-Al、铝硅Al-Si、铝铜Al-Cu、铝钛Al-Ti、银铜Ag-Cu、铝镁Al-Mg、钴铁硼Co-Fe-B、铜铟镓Cu-In-Ga、铁锰Fe-Mn、铟锡In-Sn、钴铁Co-Fe、镍钴Ni-Co、镍铁Ni-Fe、镍铬Ni-Cr、镍锆Ni-Zr、镍铝Ni-Al、镍铜Ni-Cu、镍钒Ni-V、钨钛W-Ti、锌铝Zn-Al、铝钛硼Al-Ti-B、铝钪Al-Sc、钒铝 V-Al、铁V-Al-Fe、铜锡Cu-Sn、锆铝Zr-Al、钒铝V-Al、硼铁B-Fe等。
 陶瓷靶材 ITO靶、氧化镁靶、氧化铁靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化钛靶、氧化铬靶、氧化锌靶、硫化锌靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化铈靶、二氧化锆靶、五氧化二铌靶、二氧化钛靶、二氧化锆靶，、二氧化铪靶，二硼化钛靶，二硼化锆靶，三氧化钨靶，三氧化二铝靶，五氧化二钽，五氧化二铌靶、氟化镁靶、氟化钇靶、*靶、氮化铝靶，氮化硅靶，氮化硼靶，氮化钛靶，碳化硅靶，铌酸锂靶、钛酸镨靶、钛酸钡靶、钛酸镧靶、氧化镍靶、等陶瓷靶材。
产品通过各种方法（磁控溅射、真空镀等）应用真空镀膜的各种领域：科学研究，航天航空，汽车，微电子，集成电路产业，光源，光学，装饰，平面显示器产业，信息存储产业，数据存储等等。
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