硅化铪靶材 HfSi2靶材磁控溅射靶材电子束蒸发料纯度：99.5%中文名硅化铪 英文名HafniumsilicideEINECS235-640-1分子式 HfSi2分子量242.62稳定性常温常压下稳定标签：硅化铪靶HfSi磁控溅射 硅化铪靶材HfSi2靶材磁控溅射靶材 北京市硅化铪靶材靶材 北京市硅化铪靶材靶材厂家北京市北京市[硅化铪靶材 HfSi2靶材 磁控溅射靶材] 北京市硅化铪靶材靶材厂家硅化铪靶材HfSi2靶材磁控溅射靶材电子束蒸发料