高纯金属碲靶材Te靶材 磁控溅射靶材电子镀膜蒸发料 纯度：99.99%中文名碲分子量 127.6原子序数52 密  度 6.25×10kg/m熔  点452℃沸  点1390℃标签：碲靶材Te靶材 碲靶材Te靶材 北京市高纯金属 北京市高纯金属厂家北京市北京市[碲靶材 Te靶材] 北京市高纯金属厂家高纯金属碲靶材Te靶材磁控溅射靶材电子镀膜蒸发料