高纯金属碲靶材 Te靶材 磁控溅射靶材 电子镀膜蒸发料

信息详情
  高纯金属碲靶材 Te靶材  磁控溅射靶材 电子镀膜蒸发料   纯度:99.99% 中文名 碲 分子量  127.6 原子序数 52  密    度  6.25×10kg/m 熔    点 452℃ 沸    点 1390℃ 标签: 碲靶材 Te靶材   碲靶材 Te靶材   北京市高纯金属   北京市高纯金属厂家

北京市 北京市[碲靶材 Te靶材] 北京市高纯金属厂家
高纯金属碲靶材 Te靶材 磁控溅射靶材 电子镀膜蒸发料
信息图片
北京北京高纯金属碲靶材 Te靶材  磁控溅射靶材 电子镀膜蒸发料
同类信息推荐
关于我们 | Copyright 2008 - 2023 追赶网. All Rights Reserved
备案号:黑B2-20070842 | 公安备案号:23010302000134 | 统一社会信用代码:91230103763186464H