本镀膜机主要应用于大专院校、科研机构、企业实验室及微小产品进行真空镀膜等真空处理的工艺研究、样板试制、操作培训和生产。
该设备主机与控制一体化设计，操控方便；结构紧凑，占地面积小。
该系列设备广泛应用于高校、科研院所的教学、科研实验以及生产型企业前期探索性实验及开发新产品等，深受广大用户好评。
技术参数：1、真空腔室：ф300×H360mm，304*不锈钢真空腔室/（不包含真空机组，              480x320x460mm宽X高X深）2、真空系统：复合分子泵+直联旋片泵+高真阀门高真空系统，数显复合真空计；3、真空**限：（空载）8.0×10-5Pa；4、漏率：≤0.8Pa/h；5、抽速：（空载）从大气抽至5.0×10-3Pa≤13min；6、膜厚不均匀性：≤±5%（基片台Φ80mm范围内）；7、其他：磁控溅射和蒸发镀一体机等。
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