溅射靶材    北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年，石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。
公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。
    靶中毒的物理解释    一般情况下，金属化合物的二次电子发射系数比金属的高，靶中毒后，靶材表面都是金属化合物，在受到离子轰击之后，高纯碳靶价格，释放的二次电子数量增加，高纯碳靶，提高了空间的导通能力，碳靶，降低了等离子体阻抗，导致溅射电压降低。
从而降低了溅射速率。
一般情况下磁控溅射的溅射电压在400v-600v之间，当发生靶中毒时，溅射电压会显著降低。
石久高研专注15年提供高纯金属靶材 *、高纯靶材欢迎来电咨询~~~金属靶材北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年，石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。
公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。
溅射靶材使用指南及注意事项靶材保养 为避免在溅射过程中因为不洁净的腔体导致短路和起弧，有必要阶段性的除去溅射轨道中间及两侧堆积的溅射物，这也有助于用户可以连续以大功率密度进行溅射。
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石久高研全体员工愿与各界有识之士共同发展，共创美好未来。
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