一、应用领域石英石墨干锅太阳能硅片清洗、拉晶切片用水、硅材料清洗用水、制取电子工业生产如单晶硅、半导体、集成电路块、IC芯片封装、显象管、玻壳、液晶显示器、光学、光电、热电厂、冶金、化工等二、工艺流程1、一级反渗透+混床（出水2---15mΩ.cm）原水箱—原水泵—多介质过滤器—活性炭过滤器—软水器－保安过滤器－高压泵—反渗透主机－纯水箱—纯水泵－阴阳离子交换混床－微孔过滤器—储水罐－纯水输送泵－用水点2、一级反渗透+EDI系统（出水5---15mΩ.cm）原水箱---原水泵－多介质过滤器－活性炭过滤器－软水器－保安过滤器－高压泵---反渗透主机－纯水箱—EDI系统－储水罐－纯水输送泵－用水点3、二级反渗透+EDI系统（出水18mΩ.cm）原水箱—原水泵－多介质过滤器－活性炭过滤器－软水器－保安过滤器－一级高压泵—一级反渗透主机－PH调节—二级级高压泵—二级反渗透—纯水箱—脱气装置—微孔过滤器－EDI系统－抛光混床系统—储水罐－纯水输送泵－用水点三、出水标准符合美国ASTM标准、符合《中国电子行业超纯水**标准》GB/T1146.1-1997（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm）四、订货须知具体的设备处理量、出水标准、设备材质、尺寸及电器控制等，我公司将会提供给您详细的方案说明。
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