临沂研创新材料科技有限公司为您供应高纯钼靶材及钼的相关镀膜产品，主要包括：1、 高纯钼靶:本公司供应适合于辉光放电溅射、射频辉光溅射、磁控溅射、离子束溅射、离子镀用的高纯钼靶材。
2、 高纯钼靶材纯度为：99.9%，99.95%，99.98%3、 高纯钼靶材的规格：（1）平面靶材如100*5mm平面高纯圆钼靶，150*100*3平面高纯板钼靶材，（2）磁控溅射用高纯钼靶：100*120柱靶等。
4、 高纯钼靶的原材料生产工艺：真空熔炼，熔融铸造，粉末冶金，热压，冷（热）等静压等。
5、 高纯钼靶材加工工艺：磨，车，铣，等。
6、 高纯钼蒸发舟常用型号：310#，308#，312#，315#。
7、 高纯钼片，高纯钼背板梆定。
研创新材专业生产*溅射靶材，陶瓷靶材，金属靶材。
产品通过各种方法（磁控溅射、真空镀等）应用真空镀膜的各种领域：科学研究，航天航空，汽车，微电子，集成电路产业，光源，光学，装饰，平面显示器产业，信息存储产业，数据存储等等。
 1. 金属靶材：镍靶，钛靶，锌靶，铬靶，镁靶，铌靶，锡靶，铝靶，铟靶，铁靶，锆靶，硅靶，铜靶，钽靶，锗靶，银靶，钴靶，金靶，钆靶，镧靶，钇靶，铈靶，铪靶，钼靶，铁镍靶，钨靶，不锈钢靶，锆铝靶，镍铁靶，钛铝靶，铁钴靶，镍铬靶，铜铟镓靶，铝硅靶，锌铝靶等溅射靶材。
2. 陶瓷靶材ITO靶、AZO靶，IGZO靶，氧化镁靶、氧化钇靶，氧化铁靶，氧化铁靶、氧化镍靶，氧化铬靶、氧化锌靶、硫化锌靶、*靶，硫化钼靶，二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化铈靶、二氧化锆靶、五氧化二铌靶、二氧化钛靶、二硫化钼靶，二氧化铪靶，二硼化钛靶，二硼化锆靶，三氧化钨靶，三氧化二铝靶，五氧化二钽靶、氟化镁靶、氟化钇靶、*靶、氮化铝靶，氮化硅靶，氮化硼靶，氮化钛靶，碳化硅靶，铌酸锂靶、钛酸镨靶、钛酸钡靶、钛酸镧靶等陶瓷溅射靶材.3.合金靶材合金靶材：钛铝Ti-Al、铝硅Al-Si、铝铜Al-Cu、铝钛Al-Ti、银铜Ag-Cu、铝镁Al-Mg、钴铁硼Co-Fe-B、铜铟镓Cu-In-Ga、铁锰Fe-Mn、铟锡In-Sn、钴铁Co-Fe、镍钴Ni-Co、镍铁Ni-Fe、镍铬Ni-Cr、镍锆Ni-Zr、镍铝Ni-Al、镍铜Ni-Cu、镍钒Ni-V、钨钛W-Ti、锌铝Zn-Al、铝钛硼Al-Ti-B、铝钪Al-Sc、钒铝  V-Al 、铁V-Al-Fe、铜锡Cu-Sn、锆铝Zr-Al、钒铝V-Al、硼铁B-Fe等。
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