凯亚达高纯99.999%锑块,锑颗粒(Sb)

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产品参数 品名:锑块,锑颗粒,锑棒 产地:四川乐山夹江 含量≥:99.999 牌号:凯亚达 形状:其他 制作方法:其他 产品特点 99.999%锑块,锑颗粒,锑棒 1,技术对接:锑与Cl2反应生产SbCl3 – 精馏 – 通氢还原 – 锑块 – 氧气保护下制粒; 2,检验:ICP-MS(5N锑的总杂质含量低于10ppm); 3,服务:提供免费样品,提供MSDS及实用的防护措施,提供应用材料解决方案; 4,物理性质: 原子量:121.760 电负性:2.05 密度:6.697 g/cm3 (25℃) 熔点:630.63 ℃ 沸点:1587 ℃ 5,规格: 化学纯度: 高纯锑:Sb-05 纯度99.999%以上,银,铋,铜,铁,镁,锰,硅,镍,铅,硫,锌杂质总含量小于10ppm; 超纯锑:Sb-06 纯度99.9999%以上,银,铋,铜,铁,镁,锰,硅,镍,铅,锌杂质总含量小于1ppm; 超高纯锑:Sb-07 纯度99.99999%以上,银,铋,铜,铁,镁,锰,硅,镍,铅,锌杂质总含量小于0.1ppm。
6,物理性状:粉,块,锭,棒,单晶体; 7,用途: 主要用于制备Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体InSb, BiSb, GaSb,高纯合金,电子致冷元件材料以及锗,硅单晶的掺杂剂; 8,包装:三层真空包装或充氩气保护; 产品实拍 杭州凯亚达半导体材料有限公司-销售部 高纯硒 二氧化碲 硫化锌 硫化锂 锑类化合物 硫类化合物 硒类化合物 铟类化合物 公司简介 公司12年来共研制开发出40余项半导体化合物材料:  碲系化合物:  碲铜(CuTe),碲化铟( InTe),碲化锌(ZnTe),P/N三碲化二铋(Bi2Te3),二氧化碲(TeO2)...  三硫化二镓(Ga2S3),二硫化锗(GeS2),硫化锌(ZnS),硫化锡(SnS),三硫化二铟(In2S3),硫化亚铜(Cu2S)...  无氧硒及硒系化合物:  三硒化二镓(Ga2Se3),硒化亚铜(Cu2Se),三硒化二铟(In2Se3),硒化铋(Bi2Se3)...  氧系化合物:  4N-5N三氧化二镓(Ga2O3),5N-6N 三氧化二铟(In2O3),5N 三氧化二铋(Bi2O3),4N-5N 三氧化二锑(Sb2O3)...  铜铟镓硒(CIGS)系列材料.  靶材:氧化锌靶,氧化锌铝靶,铜铟镓硒靶,三硒化二铟靶,硒化亚铜靶材...  公司现有工艺及设备:  1,电解装置4套:回收电解铜,电解铅锌矿的阳极泥;高纯铟的电解,特别是除去里面的杂质锡。
  2,真空蒸馏装置12套:根据杂质不同的饱和蒸气压,采用真空蒸馏的方法将其去除。
  3,区域熔炼炉10套。
  4,单间提拉炉12套。
  5,CVD 化学气相沉积设备3套。
  6,PVD装置2套。
  7,真空熔炼炉15套。
  8,THM 移动式加热设备。
  9,Cl化炉3套(高纯锑*),氢化还原炉3套。
  公司现有的检测设备:  1,ICP-MS;ICP-OES (适用范围:检测<99.999% 纯度的产品)  2,XRD (化合物的相结构分析)  3,激光粒度分析仪(粉末粒径)  4,对于99.9999%以上的产品,提供GDMS 外检指标(送EAG外检)  研发、生产、销售:半导体材料、光电材料,货物技术的进出口业务 手机网站 杭州凯亚达半导体材料有限公司-销售部 联系人:高杰 手机:15868194867    QQ:439219975 网站:http://hzkydgj.b2b.youboy.com 标签: 锑   锑   杭州市锑块锑颗粒   杭州市锑块锑颗粒厂家

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凯亚达高纯99.999%锑块,锑颗粒(Sb)
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浙江杭州凯亚达高纯99.999%锑块,锑颗粒(Sb)
  • 属地:浙江
  •     公司12年来共研制开发出40余项半导体化合物材料: 碲系化合物: 碲铜(CuTe),碲化铟(InTe),碲化锌(ZnTe),P/N三碲化二铋(Bi2Te3),二氧化碲(TeO2)... 三硫化二镓(Ga2S3),二硫化锗(GeS2),硫化锌(ZnS),硫化锡(SnS),三硫化二铟(In2S3),硫化亚铜(Cu2S)... 无氧硒及硒系化合物: 三硒化二镓(Ga2Se3),硒化亚铜(Cu2Se),三硒化二铟(In2Se3),硒化铋(Bi2Se3)... 氧系化合物: 4N-5N三氧化二镓(Ga2O3),5N-6N三氧化二铟(In2O3),5N三氧化二铋(Bi2O3),4N-5N三氧化二锑(Sb2O3)... 铜铟镓硒(CIGS)系列材料. 靶材:氧化锌靶,氧化锌铝靶,铜铟镓硒靶,三硒化二铟靶,硒化亚铜靶材... 公司现有工艺及设备: 1,电解装置4套:回收电解铜,电解铅锌矿的阳**泥;高纯铟的电解,特别是除去里面的杂质锡。 2,真空蒸馏装置12套:根据杂质不同的饱和蒸气压,采用真空蒸馏的方法将其去除。 3,区域熔炼炉10套。 4,单间提拉炉12套。 5,CVD化学气相沉积设备3套...
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