101136402.5以水溶液法制备氧化铟锡粉末方法201803102.X氧化铟中固溶锡的ITO粉末制造方法以及ITO靶的制造方法303107359.1氧化铟膜的形成方法、具有氧化铟膜的衬底及半导体元件497106893.3银氧化锡氧化铟电触点用线材及其生产工艺591102106.1用于磁光记录的氧化锌或氧化铟基层的铂或钯/钴多层薄膜694191538.7制造氧化铟/氧化锡烧结体方法和用其制造的制品798125805.0氧化铟膜的形成方法,具有氧化铟膜的衬底及半导体元件897108322.3氧化铟/氧化锡溅射靶材及其制造方法999114003.6纳米氧化铟介孔组装体系及其制备方法1099125713.8金属氧化铟锡复合透明导电薄膜及其制备方法1101135428.3氧化铟锡膜用浸蚀液1201133675.7纳米氢氧化铟用于生产碱性电池的工艺13200710086796.7图案化氧化铟锡薄膜方法14200710114642.4一种氧化铟纳米线有序*体制备方法15200810034703.0在硅片上生长微米级块状结构的氧化铟薄膜方法1697239510.5平面磁控溅射氧化铟锡膜卷绕镀膜机1701258489.4具有中频反应溅射二氧化硅的氧化铟锡玻璃在线联镀装置18200410026379.1锡掺杂的氧化铟薄膜及微细图形制备工艺19200410014236.7氧化铟薄膜材料及制备方法2002148916.5增进平坦化氧化铟锡薄膜方法2103125510.6氧化铟锡粉末制备方法2202150519.5使集成电路可承受高压静电放电的氧化铟锡走线方法2303129233.1高温金属舟及其镀制掺锡氧化铟透明导电膜方法2403118327.X氧化铜－氧化铟复合纳米晶材料制备方法2503116515.1一种氧化铟锡*银浆料及其制造方法26200310106149.1以银氧化锌氧化铟为基础的电接触材料及其生产工艺2703128905.3在红外波段具有低发射率的氧化铟锡粉末及其制备方法28200610013295.X电子束蒸发低温制备锡掺杂氧化铟ITO薄膜方法29200410058984.5热稳定型及低电阻比氧化铟锡膜制法30200510050544.1氧化铟锡透明导电玻璃及其生产工艺31200510110585.3锡掺杂氧化铟纳米粉体制备方法32200610071885.1氧化铟粉末及其制备方法33200510072252.6纳米级氧化铟锡复合粉体制备方法34200480038407.8掺锡氧化铟微粒子分散液及其制造方法、及采用了该分散液的具有热线*性的夹层玻璃用中间膜、以及其夹层玻......35200610100096.4氧化铟-氧化锡粉末和使用该粉末的溅射靶以及氧化铟-氧化锡粉末的制造方法36200480041060.7氧化铟-氧化锡粉体和利用该粉体的溅射靶37200580007545.4氧化铟-氧化铈类溅射靶及透明导电膜以及透明导电膜的制造方法38200610163856.6一种液相共沉淀生产超细氧化铟锡粉体方法39200710088070.X氧化铟锡超细粉体的低温制备方法40200580040112.9改进的用于精密切割和对齐液晶显示器(LCD)面板的氧化铟锡(ITO)的制定图案41200580041150.6表面改性的氧化铟锡42200710044190.X形貌可控的氧化铟纳米晶制备方法43200710044189.4晶型可控的氧化铟粉末制备方法44200580009752.3氧化铟-氧化锌-氧化镁类溅射靶及透明导电膜45200810062053.0柔性衬底上室温溅射沉积氧化铟锡透明导电薄膜方法46200680041760.0具有氧化铟锡层的发光二**管及其制造方法47200810014907.8一种氧化铟单晶外延薄膜制备方法48200810035930.5一种长方体形氧化铟单晶制备方法49200780000386.4氧化铟类透明导电膜及其制造方法50200810133215.5一种氧化铟锡靶材的生产方法51200780002916.9用于氧化铟锡表面的化学机械抛光的组合物及方法 现已开通**800多个城市免费快递货到付款服务 中国企业技术网客服电话：********* *********值班手机：18910555021官方网站：***标签：  北京市氧化铟制备应用 北京市氧化铟制备应用厂家北京市北京市北京市氧化铟制备应用厂家供应氧化铟制备及应用专利(198元**货到付款)