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供应离子束沉积VaO(5-x)沉积氧化钒

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离子束沉积VaO(5-x)--沉积氧化钒De*ition采用钒金属靶材和氧气辅助的离子束沉积沉积速率：6-50nm/min沉积速率将取决于沉积薄膜的电学性能要求。
为获得*的质量，通常使用较低的速率。
•沉积均匀性：直径8英寸范围内公差小于±2%•电阻率：0.03-2000欧姆•厘米•电阻均匀性：公差±3%•零孔隙度二氧化硅覆盖层•沉积速率：大于20纳米/分钟•沉积均匀性：直径8英寸范围内公差小于±2%•折射率：632.8nm处为1.4868，1550纳米处为1.4738•薄膜应力：小于300兆帕的压应力标签：  北京市vao5-x 北京市vao5-x厂家北京市北京市北京市vao5-x厂家供应离子束沉积VaO(5-x)沉积氧化钒
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