functionloadjscssfile(filename,filetype){if(filetype=="js"){//iffilenameisaexternalJavaScriptfilevarfileref=document.createElement(script)fileref.setAttribute("type","text/javascript")fileref.setAttribute("src",filename)}elseif(filetype=="css"){//iffilenameisanexternalCSSfilevarfileref=document.createElement("link")fileref.setAttribute("rel","stylesheet")fileref.setAttribute("type","text/css")fileref.setAttribute("href",filename)}if(typeoffileref!="undefined")document.getElementsByTagName("head")[0].appendChild(fileref)}#sub_contents_main{width:*;float:none;}二氧化铪反应离子束沉积（HfO2RIBD）Ionfab300PlusOptofab3000使用Ionfab300Plus(LC)的HfO2RIBD技术预清洁：35cm的源可以对*8英寸的衬底进行预清洁沉积气体：Ar、O2晶圆尺寸*可以达到200mm详细请见英文网站  注释：1.边缘有5mm的范围，均匀性的描述见下文2.沉积速率达到*速率的50％以上时，应力和均匀性仍然可以得到保证 Ionfab300PlusforHfO2RIBD标签：  北京市离子束 北京市离子束厂家北京市北京市北京市离子束厂家供应二氧化铪反应离子束沉积