供应二氧化铪反应离子束沉积

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function loadjscssfile(filename, filetype){ if (filetype=="js"){ //if filename is a external JavaScript file var fileref=document.createElement(script) fileref.setAttribute("type","text/javascript") fileref.setAttribute("src", filename) } else if (filetype=="css"){ //if filename is an external CSS file var fileref=document.createElement("link") fileref.setAttribute("rel", "stylesheet") fileref.setAttribute("type", "text/css") fileref.setAttribute("href", filename) } if (typeof fileref!="undefined") document.getElementsByTagName("head")[0].appendChild(fileref) } #sub_contents_main { width: *; float:none; } 二氧化铪反应离子束沉积(HfO2 RIBD) Ionfab 300Plus Optofab3000 使用Ionfab300Plus (LC)的HfO2 RIBD技术 预清洁:35cm的源可以对*8英寸的衬底进行预清洁 沉积气体:Ar、O2 晶圆尺寸*可以达到200mm 详细请见英文网站     注释: 1. 边缘有5mm的范围,均匀性的描述见下文 2. 沉积速率达到*速率的50%以上时,应力和均匀性仍然可以得到保证   Ionfab 300Plus for HfO2 RIBD 标签:     北京市离子束   北京市离子束厂家

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