喷涂*靶材 SpraySiAlTarget产品说明Productdescription以等离子体为热源，在大气环境下通过一定的气氛保护装置，将Si+Al粉末加热到熔融或半熔融状态并高速冲击背管表面形成致密涂层，从而制备出高纯度、低氧含量、高致密度SiAl靶材。
Withplasmaastheheatsource,highpurity,lowoxygencontent,highdensitySiAltargetsareproducedbyusingSiandAlpowders.The startingSiandAl powdersareheatedtomoltenorsemi-moltenstate withtheprotectionofcertainatmosphereandsprayedonthesurfaceofbackingtubeathighspeeds toformdensecoatings.项目 Item参数 Specifications检测手段Testingmethod纯度 Purity≥99.9% Al含量 AlContent8-10% 密度 Density≥2.2g/cm3  杂质含量 ImpuritiesFe: ≤350ppmCa: ≤50ppmCu: ≤50ppmMg:≤20ppmNi: ≤20ppmO: ≤6000ppmN: ≤500ppm杂质总和(O、N除外): ≤1000ppmTotalimpurity (excludingO,N)ICP氧氮分析仪 Oxygenandnitrogenanalyzer 电阻率 Electricalresistivity≤50mΩcm四探针电阻率仪Four-proberesistivitymeter背管材质 Backingtube-选用304/316L不锈钢（无磁）304/316Lstainlesssteel(non-magnetic) 靶材尺寸Dimension-按照图纸要求加工 Accordingtocustomizeddrawings 应用领域Applications-用于制作SiO2膜、Si3N4膜，主要用于光学玻璃AR膜，LOW-E镀膜玻璃，半导体电子器件，TFT-LCD，平面显示，触摸屏玻璃。
Forde*itionof SiO2 and Si3N4 films,whichare usedforARfilms ofopticalglasses,LOW-Eglasses,electronicdevices,TFT-LCD,flatpanelscreens,touchscreenglasses.标签：玻璃镀膜...磁控溅射...真空镀膜...喷涂靶材触摸屏镀... 玻璃镀膜靶材磁控溅射靶材真空镀膜靶材喷涂靶材触摸屏镀膜材料光学玻璃镀膜材料low-E玻璃镀膜材料SiO2膜Si3N4膜 合肥市靶材 合肥市靶材厂家安徽合肥市[玻璃镀膜靶材 磁控溅射靶材 真空镀膜靶材 喷涂靶材 触摸屏镀膜材料 光学玻璃镀膜材料 low-E玻璃镀膜材料 SiO2膜 Si3N4膜] 合肥市靶材厂家AR膜系硅铝靶材高纯3~6NSiAIlow-E镀膜玻璃材料可定制