手镯真空电镀、千屹真空镀膜、横岗真空电镀

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物理的气相沉积法依据制作过程工艺不同又分为真空蒸发镀膜、磁控溅射镀膜和离子镀膜。
a.真空蒸发镀膜法:在真空室(镀炉)中加热蒸发容器中待形成薄膜的原材料,使其原子或分子从表面气化逸出,形成蒸气流,入射到固体(待镀产品)表面,凝结形成固态薄膜的方法。
b.离子镀膜法:蒸发源的加热和真空镀膜法相同。
由于系统为等离子状态,使金属离子在样品表面吸附成膜。
金属离子为高能量状态,成膜时具有离子结晶性佳、膜的密着性提高的优点。
c.溅射镀膜法:给靶材施加高电压(形成等离子状态),使正荷电气体离子撞击靶材、金属原子飞弹,而在样品表面形成金属皮膜的方法。
制膜(或镀膜)方法可以分为气相生成法、氧化法、离子注入法、扩散法、电镀法、涂布法、液相生成法等。
气相生成法又可分为物理的气相沉积法(简称PVD法)化学气相沉积法和放电聚合法等。
我们今天主要介绍的是物理的气相沉积法。
由于这种方法基本都是处于真空环境下进行的,因此称它们为真空镀膜技术。
而真空镀膜设备主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积等很多种。
主要思路是分成蒸发和溅射两种。
需要镀膜的被成为基片,镀的材料被成为靶材。
基片与靶材同在真空腔中。
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