离子镀：蒸发物质的分子被电子碰撞电离后以离子沉积在固体表面，称为离子镀。
这种技术是D.麦托克斯于1963年提出的。
离子镀是真空蒸发与阴**溅射技术的结合。
一种离子镀系统如图4[离子镀系统示意图]，将基片台作为阴**，外壳作阳**，充入惰性气体以产生辉光放电。
从蒸发源蒸发的分子通过等离子区时发生电离。
正离子被基片台负电压加速打到基片表面。
未电离的中性原子（约占蒸发料的95％）也沉积在基片或真空室壁表面。
电场对离化的蒸气分子的加速作用（离子能量约几百～几千电子伏）和亚离子对基片的溅射清洗作用，使膜层附着强度大大提高。
离子镀工艺综合了蒸发（高沉积速率）与溅射（良好的膜层附着力）工艺的特点，并有很好的绕射性，可为形状复杂的工件镀膜。
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