阳**氧化：主要是铝的阳**氧化，手机指环扣，是利用电化学原理，在铝和铝合金的表面生成一层Al2O3（氧化铝）膜。
这层氧化膜具有防护性、装饰性、绝缘性、耐磨性等特殊特性。
利用柔性抛光工具和磨料颗粒或其他抛光介质对工件表面进行的修饰加工。
针对不同的抛光过程:粗抛(基础抛光过程)，中抛(精加工过程)和精抛(上光过程)，选用合适的抛光轮可以达到好的抛光效果，同时提高抛光效率。
技术特点：提高工件的尺寸精度或几何形状精度，得到光滑表面或镜面光泽，同时也可*光泽。
在真空条件下成膜有很多优点：可减少蒸发材料的原子、分子在飞向基板过程中于分子的碰撞，减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应（如氧化等），以及减少成膜过程中气体分子进入薄膜中成为杂质的量，手机指环扣厂商，从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与基板的附着力。
通常真空蒸镀要求成膜室内压力等于或低于10-2Pa，手机指环扣订制，对于蒸发源与基板距离较远和薄膜质量要求很高的场合，则要求压力更低。
离子镀：蒸发物质的分子被电子碰撞电离后以离子沉积在固体表面，称为离子镀。
这种技术是D.麦托克斯于1963年提出的。
离子镀是真空蒸发与阴**溅射技术的结合。
一种离子镀系统如图4[离子镀系统示意图]，手机指环扣供应，将基片台作为阴**，外壳作阳**，充入惰性气体以产生辉光放电。
从蒸发源蒸发的分子通过等离子区时发生电离。
正离子被基片台负电压加速打到基片表面。
未电离的中性原子（约占蒸发料的95％）也沉积在基片或真空室壁表面。
电场对离化的蒸气分子的加速作用（离子能量约几百～几千电子伏）和亚离子对基片的溅射清洗作用，使膜层附着强度大大提高。
离子镀工艺综合了蒸发（高沉积速率）与溅射（良好的膜层附着力）工艺的特点，并有很好的绕射性，可为形状复杂的工件镀膜。
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