溅射镀膜：用高能粒子轰击固体表面时能使固体表面的粒子获得能量并逸出表面，沉积在基片上。
溅射现象于1870年开始用于镀膜技术，1930年以后由于提高了沉积速率而逐渐用于工业生产。
常用的二**溅射设备如图3[二**溅射示意图]。
通常将欲沉积的材料制成板材——靶，固定在阴**上。
基片置于正对靶面的阳**上，陀螺指环扣支架厂，距靶几厘米。
系统抽至高真空后充入10-1帕的气体，在阴**和阳**间加几千伏电压，两**间即产生辉光放电。
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电化学抛光能提高零件反光性能；提高耐腐蚀性；降低机加工件表面硬度；并因降低表面粗糙度而降低摩擦系数。
电化学抛光也可用来除去物件毛刺等。
与机械抛光相比，电化学抛光有如下特点。
（1）机械抛光会产生表面硬化层及磨料夹杂，降低不锈钢的耐腐蚀性，而电化学抛光产生钝化表面，增加不锈钢的耐腐蚀性。
（2）电化学抛光对基材有一定要求，如金相组织不均匀时会产生不均匀的抛光表面，深的划伤不能被抛光平整。
而机械抛光对基材的要求低得多。
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