目前，我国具备高纯铝生产能力的企业共7家，分别是新疆众和、包头铝业、霍煤鸿骏、山西关铝、宜都东阳光铝、中铝贵州和神火铝业。
其中，包头铝业和新建众和都具有偏析法生产能力，其余几家均采用三层电解法。
相信随着国内生产工艺的发展，溅射靶材价格，产品质量的提高，高纯铝将是铝工业发展的新方向。
从高纯铝靶材的上游供应情况来看，我国高纯铝产量并不高，也不能满足高纯铝靶材生产所需。
其余所需只能来源于进口。
未来，我国将通过超高纯铝及铝合金靶材制备加工过程中的关键技术攻关，全1面掌握应用于大规模集成电路制造和TFT-LCD制造的大尺寸超高纯铝及铝合金靶材的制备加工技术;制备出满足大规模集成电路制造用和TFT-LCD使用要求的超高纯铝及铝合金靶材产品;为在我国形成一个从超高纯铝精炼提纯到靶材加工的完整产业链提供关键技术支撑。
随着电子新材料行业的快速发展，以高纯铝为基础的电子新材料产品(包括靶材)需求将保持高速增长。
国内铝电解电容器需求将以年均13-15%的速度增长。
随着我国存储盘及半导体制品国产化，高纯铝靶材的需求量将会进一步增加，市场前景广阔。
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