介绍半导体器件生产中硅片须经严格清洗。
微量污染也会导致器件失效。
清洗的目的在于*表面污染杂质，包括有机物和无机物。
这些杂质有的以原子状态或离子状态，二手电池组件回收，有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。
有机污染包括光刻胶残留物、合成蜡和人接触器件、工具、器皿带来的油脂或纤维。
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个人或企业介绍成功者必有重谢！当然，芯片给家庭带来的变化还远不止于此，随着电子化家庭的增多，一种新的生产生活方式－－“家庭工业”和“家庭办公室”正在产生。
将来，坐在家里操作机器、指挥生产、管理公司和工厂，将成为为期不远的现实。
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个人或企业介绍成功者必有重谢！生产商必须平衡这些相关的因素使生产力达到化。
更高的切割速度和更大的荷载将会加大切割切割线的拉力，增加切割线断裂的风险。
由于同一硅块上所有硅片是同时被切割的，只要有一条切割线断裂，所有部分切割的硅片都不得不丢弃。
然而，使用更粗更牢固的切割线也并不可取，这会减少每次切割所生产的硅片数量，并增加硅原料的消耗量。
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